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J-GLOBAL ID：200902100866131437   整理番号：97A0194363

モールド補助ナノリソグラフィー 確かなパターン複製のためのプロセス

Mold-assisted nanolithography: A process for reliable pattern replication.

著者 (4件)： HAISMA J (Philips Res. Lab., Eindhoven, NLD) ,  VERHEIJEN M (Philips Res. Lab., Eindhoven, NLD) ,  VAN DEN HEUVEL K (Philips Res. Lab., Eindhoven, NLD) ,  VAN DEN BERG J (Philips Res. Lab., Eindhoven, NLD)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 14  号： 6  ページ： 4124-4128  発行年： 1996年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 100nm未満の寸法のディテールをもつ薄層パターンを再現性よ...

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： モールドリソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： モールド ,  ナノリソグラフィー ,  複製 ,  プロセス