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J-GLOBAL ID:200902101402091420   整理番号:97A0194382

水収着能の高いArF表面改質レジストプロセス

ArF surface modification resist process with enhanced water sorption ability.
著者 (4件):
資料名:
巻: 14  号:ページ: 4212-4215  発行年: 1996年11月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 1071-1023  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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露光後のレジスト表面に化学蒸着によりポリシロキサンを形成する...
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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