電着法で作製したCo/Cu多層膜の磁気抵抗効果

文献

J-GLOBAL ID：200902101779945661 整理番号：96A0677235

Magnetoresistance effect of Co/Cu multilayer film produced by electrodeposition method.

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巻： 156 号： 1/3 ページ： 350-352 発行年： 1996年04月
JST資料番号： H0644A ISSN： 0304-8853 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

Co/Cu多層膜を調製する電着条件と,調製膜の磁化および磁気...

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