文献

J-GLOBAL ID：200902101912025317   整理番号：96A0909225

低圧プラズマスパッタリング法で堆積した金-炭化水素のコンポジット薄膜の構造

Structure of gold-hydrocarbon composite thin films deposited using low-voltage plasma sputtering method.

著者 (5件)： OKAMOTO A (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN) ,  NOSAKA T (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN) ,  YOSHITAKE M (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN) ,  SUZUKI Y (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN) ,  OGAWA S (Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 281/282  号： 1/2  ページ： 390-392  発行年： 1996年08月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ArとCH₄の混合ガスを用いたDCプラ...

シソーラス用語： スパッタリング ,...
準シソーラス用語： メタン

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分類 (1件)： 薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (7件)： 低圧 ,  プラズマスパッタリング ,  堆積 ,  金 ,  炭化水素 ,  コンポジット ,  薄膜