低温ホットウォールCVD法を用いた高性能a-Si/SiN TFTのバッチ処理

文献

J-GLOBAL ID：200902102721567213 整理番号：93A0830196

Batch processing of high-performance a-Si/SiN TFTs using a low-temperature hot-wall CVD method.

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資料名：
巻： 1 号： 2 ページ： 181-187 発行年： 1993年06月
JST資料番号： B0996B ISSN： 1071-0922 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

SiN膜のホットウォールCVDを詳細に調査し,高性能a-Si...

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