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J-GLOBAL ID：200902103203992403   整理番号：93A0535389

タングステンフィラメント熱支援rfプラズマCVDを用いたほう素含浸Fe上のc-BN膜の形成

Formation of c-BN Film on Fe with Seeped Boron Using RF Plasma CVD Thermally Assisted by a Tungsten Filament.

著者 (5件)： WANG W (Lanzhou Univ.) ,  JI R (Lanzhou Univ.) ,  GAO J (Lanzhou Univ.) ,  LIAO K (Lanzhou Univ.) ,  ZHANG X (Lanzhou Univ.)
資料名： Physica Status Solidi. A. Applied Research  (Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻： 136  号： 2  ページ： K89-K91  発行年： 1993年04月16日 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 0031-8965  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Fe上にc-BN膜を蒸着する前にBをFeに含浸させ,NH<s...

シソーラス用語： セラミック被覆 ,...
準シソーラス用語： 熱-プラズマCVD

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (9件)： タングステン ,  フィラメント ,  支援 ,  RFプラズマ ,  CVD ,  ほう素 ,  含浸 ,  Fe ,  BN