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J-GLOBAL ID：200902104446576110   整理番号：99A0601056

ヘキサメチルジシラザンのプラズマ支援化学蒸着による誘電体薄膜の調製

Preparation of Thin Dielectric Films by Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of Hexamethyldisilazane.

著者 (4件)： IRIYAMA Y (Yamanashi Univ., Kofu, JPN) ,  NAGASE K (Kinki Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  HASEGAWA Y (Kinki Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  IHARA T (Kinki Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 12  号： 1  ページ： 39-44  発行年： 1999年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Al基材上に薄い誘電体膜を生成させる目的で,ヘキサメチルジシ...

シソーラス用語： *シラザン誘導体 ,...
準シソーラス用語： バリア

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： ヘキサメチルジシラザン

引用文献 (8件)：

• 1). A. Lopetz, Jr. and P. C. Richardson, IEEE Trans.,BME-16 (1), 99 (1969).
• 2). G. Grundmeier, M. Stratmann, Ber. Bunsen-Ges., 99, 1387 (1995).
• 3). M. Fujishima, C. Funakoshi, Y. Yoshida, T.Yamashita, K. Kashiwagi, and K. Ishihara,Kobunshi Ronbunshu, 52, 373 (1995).
• 4). F. Fracassi, R. d'Agostino, and G. Bruno,Plasmas Polym. ,1, 3 (1996).
• 5). M. -R. Yang, K. -S. Chen, J. -L. He, Mater. Chem.Phys., 48, 71 (1997).

タイトルに関連する用語 (4件)： ヘキサメチルジシラザン ,  プラズマ支援化学蒸着 ,  誘電体薄膜 ,  調製