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J-GLOBAL ID：200902105563010744   整理番号：01A0497778

マスクリソグラフィーによるサブ波長構造の作製の数値的可能性の検討

Numerical feasibility study of the fabrication of subwavelength structure by mask lithography.
著者 (2件)：
ICHIKAWA H

ICHIKAWA H について

(Ehime Univ., Matsuyama, JPN)

Ehime Univ., Matsuyama, JPN について

, 
KIKUTA H

KIKUTA H について

(Osaka Prefecture Univ., Sakai, JPN)

Osaka Prefecture Univ., Sakai, JPN について


資料名：
Journal of the Optical Society of America. A. Optics, Image Science, and Vision  (Journal of the Optical Society of America. A. Optics, Image Science, and Vision)

Journal of the Optical Society of America. A. Optics, Image Science, and Vision について


巻： 18  号： 5  ページ： 1093-1100  発行年： 2001年05月 
JST資料番号： C0327B  ISSN： 1084-7529  CODEN： JOAOD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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サブ波長幅の単一開口による光波の電磁的回折,および損失のある...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*回折格子

回折格子 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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FDTD法

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分類 (1件)：
分類
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光デバイス一般 
(BD06010L)

光デバイス一般 について

タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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マスク

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, 
リソグラフィー

リソグラフィー について

, 
サブ波長構造

サブ波長構造 について

, 
作製

作製 について

, 
数値

数値 について

, 
可能性

可能性 について


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