微細パターン上の低圧化学蒸着の適合性に対する表面活性化反応速度論の影響

文献

J-GLOBAL ID：200902109112295414 整理番号：93A0242242

Influence of surface-activated reaction kinetics on low-pressure chemical vapor deposition conformality over micro features.

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資料名：
巻： 11 号： 1 ページ： 78-86 発行年： 1993年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

低圧CVD膜の構造に対する分子散乱と表面活性化反応の結合効果...

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薄膜一般

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