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J-GLOBAL ID：200902109181522716   整理番号：02A0698092

コンパクトな電子ビーム励起プラズマ源を利用したダイヤモンド状炭素の蒸着

Deposition of Diamond-Like Carbon Using Compact Electron-Beam-Excited Plasma Source.

著者 (5件)： TADA S (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ITO M (Wakayama Univ., Wakayama, JPN) ,  HAMAGAKI M (Inst. Physical and Chemical Res. (RIKEN), Saitama, JPN) ,  HORI M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  GOTO T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41  号： 8  ページ： 5408-5414  発行年： 2002年08月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ダイヤモンド状炭素と呼ばれている水素化非晶質炭素膜を,エチレ...

シソーラス用語： *DLC膜 ,...
準シソーラス用語： EBEP

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (2件)： トルエン ,  エチレン

引用文献 (10件)：

• 1) J. C. Angus, P. Koidl and S. Domitz: Plasma Deposited Thin Films, eds. J. Mort and F. Jansen (Chemical Rubber, Boca Raton, FL, 1988) p. 89.
• 2) Diamond and Diamond-Like Films and Coatings, eds. R. E. Clausing, L. L. Horton, J. C. Angus and P. Koidl (Plenum, New York, 1991).
• 3) E. S. Murdock R. F. Simmons and R. Davidson: IEEE Trans. Magn. 28 (1992) 3078.
• 4) C. V. Deshpandey and R. F. Bunshah: J. Vac. Sci. Technol. A 7 (1989) 2294.
• 5) M. Hamagaki and T. Hara: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) L383.

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズマ源 ,  ダイヤモンド状炭素 ,  蒸着