文献
J-GLOBAL ID：200902111566254075   整理番号：01A0437256

プロセス用プラズマ技術 プラズマ源 I (無磁場)

Nonmagnetized plasma source.
著者 (1件)：
三宅正司

三宅正司 について

(大阪大 接合科学研)

大阪大 接合科学研 について


資料名：
応用物理  (JSAP International)

応用物理 について


巻： 70  号： 4  ページ： 460-464  発行年： 2001年04月10日 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
半導体プロセスを中心とする材料加工において,真空中の低温プラ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
*プラズマ源

プラズマ源 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
*プラズマプロセシング

プラズマプロセシング について


   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0437256&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0252A") }}
分類 (1件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
プラズマ装置 
(BJ02082I)

プラズマ装置 について

引用文献 (19件)：
  • SUZUKI, K. Plasma Source Sci. & Technol. 1998, 7, 13
  • SETSUHARA, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1999, 38, 4263
  • SETSUHARA, Y. Proc. 18th Symp. Plasma Processing. 2001
  • 菅井秀郎編著. プラズマエレクトロニクス. 2000
  • LIEBERMAN, M. A. Principles of Plasma Discharge and Materials Processing. 1994
もっと見る
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
プロセス

プロセス について

, 
プラズマ

プラズマ について

, 
プラズマ源

プラズマ源 について

, 
磁場

磁場 について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM