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J-GLOBAL ID：200902112002240917   整理番号：99A0372768

プラズマエッチングマスクとして粗い金属膜を用いた円錐状および柱状シリコンの作製

Fabrication of silicon cones and pillars using rough metal films as plasma etching masks.

著者 (2件)： SEEGER K (Univ. Birmingham, Birmingham, GBR) ,  PALMER R E (Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 74  号： 11  ページ： 1627-1629  発行年： 1999年03月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ規模のSi構造の作製を可能にする単純な作製過程を開発した...

シソーラス用語： *RIE【エッチング】 ,...

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  試料技術  (BA02070O)

タイトルに関連する用語 (4件)： 金属膜 ,  円錐 ,  シリコン ,  作製