文献
J-GLOBAL ID:200902113088333692
整理番号:99A0974427
ECRプラズマを用いたSiC/Si薄膜の作製
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出版者サイト
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著者 (5件):
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資料名:
巻:
60th
号:
2
ページ:
510
発行年:
1999年09月01日
JST資料番号:
Y0055A
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
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