銅メタライゼーション用の五臭化タンタルからのタンタルの低温プラズマ化学蒸着

CHEN X; FRISCH H L; KALOYEROS A E; ARKLES B

文献

J-GLOBAL ID：200902114793935185 整理番号：98A1007807

銅メタライゼーション用の五臭化タンタルからのタンタルの低温プラズマ化学蒸着

Low temperature plasma-promoted chemical vapor deposition of tantalum from tantalum pentabromide for copper metallization.

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巻： 16 号： 5 ページ： 2887-2890 発行年： 1998年09月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

標記蒸着法を開発し,ICの銅メタライゼーションスキームに挿入...

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固体デバイス製造技術一般

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