方位角方向に対称な表面波で励起したマイクロ波プラズマ源中の電磁場の数値解析

文献

J-GLOBAL ID：200902115688372686 整理番号：02A0442236

Numerical Analysis of the Electromagnetic Fields in a Microwave Plasma Source Excited by Azimuthally Symmetric Surface Waves.

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巻： 41 号： 4A ページ： 2199-2206 発行年： 2002年04月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

ULSI回路素子のプラズマプロセシングのため標記低圧,高密度...

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プラズマ装置 , 固体デバイス製造技術一般

引用文献 (26件)：

1) M. Moisan, A. Shivarova and A. W. Trivelpiece: Plasma Phys. 24 (1982) 1331.
2) M. Moisan and Z. Zakrzewski: J. Phys. D 24 (1991) 1025.
3) Yu. M. Aliev, H. Schluter and A. Shivarova: Guided-Wave-Produced Plasmas (Springer, New York, 2000).
4) M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg: Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley-Interscience, New York, 1994).
5) A. W. Trivelpiece and R. W. Gould: J. Appl. Phys. 30 (1959) 1784.

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