文献
J-GLOBAL ID：200902116898103579
整理番号：00A0627821
SiH4高周波トライオード放電中のSiH3密度空間分布とSiH3の表面反応確率
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著者 (4件)：
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資料名：
巻：
52nd
ページ：
301
発行年：
1999年10月
JST資料番号：
L2200A
資料種別：
会議録 (C)
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
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