エバネセント近接場光学リソグラフィーによりパターン形成した回折格子の解析的研究

MCNAB S J; BLAIKIE R J; ALKAISI M M

文献

J-GLOBAL ID：200902118857315270 整理番号：01A0156978

エバネセント近接場光学リソグラフィーによりパターン形成した回折格子の解析的研究

Analytic study of gratings patterned by evanescent near field optical lithography.

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巻： 18 号： 6 ページ： 2900-2904 発行年： 2000年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

導電性回折格子の近接場をシミュレーションし,エバネセント近接...

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固体デバイス製造技術一般 , 光の像形成

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