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J-GLOBAL ID：200902119333577525   整理番号：01A0157031

集束イオンビーム化学蒸着による三次元ナノ構造の作製

Three-dimensional nanostructure fabrication by focused-ion-beam chemical vapor deposition.

著者 (6件)： MATSUI S (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  KAITO T (Seiko Instrument Inc., Shizuoka, JPN) ,  FUJITA J (NEC Fundamental Res. Lab., Ibaraki, JPN) ,  KOMURO M (MITI Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  KANDA K (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN) ,  HARUYAMA Y (Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 18  号： 6  ページ： 3181-3184  発行年： 2000年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 芳香族炭化水素を前駆体とする30keVのGa<sup>+<...

シソーラス用語： *集束イオンビーム ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (3件)： 集束イオンビーム化学蒸着 ,  ナノ構造 ,  作製