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J-GLOBAL ID：200902120125398550   整理番号：93A0381159

プラズマCVD法によるTiCN膜コーティング 1

TiCN Thin Film coating by Plasma CVD Process (1).

著者 (4件)： 松田福久 (大阪大 溶接工研) ,  中田一博 (大阪大 溶接工研) ,  品田学 (リケン) ,  玉本圭司 (日本電子工業)
資料名： 溶接学会全国大会講演概要  (Preprints of the National Meeting of J.W.S.)
号： 52  ページ： 212-213  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： F0641A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： CDプラズマCVD法によるTiCN膜特性に及ぼす反応ガス組成...

シソーラス用語： プラズマCVD ,...
準シソーラス用語： メタン

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分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (2件)： プラズマCVD法 ,  コーティング