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J-GLOBAL ID：200902120491582526   整理番号：98A0163827

イオンビーム支援蒸着法による窒化炭素膜形成におけるArイオン添加の効果

Influence of Ar Ion Addition on Synthesis of Carbon Nitride Films by Ion-Beam-Assisted Deposition.

著者 (5件)： 神崎昌郎 (名古屋大 大学院) ,  松室昭仁 (名古屋大 大学院) ,  村松睦夫 (名古屋大 大学院) ,  林敏行 (名古屋大 大学院) ,  山口勝美 (名古屋大 大学院)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 64  号： 1  ページ： 152-156  発行年： 1998年01月 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イオンビーム支援蒸着法による窒化炭素膜形成におけるArイオン...

シソーラス用語： プラズマCVD ,...
準シソーラス用語： 成膜温度

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分類 (1件)： 気相めっき  (WC08022K)

引用文献 (7件)：

• LIU, A. Y. Predection of New Low Compressibility Solid. Science. 1989, 245, 841
• HAN, H. -X. Structural and Optical Properties of Amorphous Carbon Nitride. Solid State Commun. 1988, 65, 921
• MAYA, L. Pyrolytic Deposition of Carbon Films Containing Nitrogen and/or Boron. J. Am. Ceram. Soc. 1912, 73, 1912
• CHEN, M. Y. Growth and Characterization of C-N Thin Films. Surf. Coat. Technol. 1992, 54/55, 360
• KRISHAN, M. G. Low Temperature Synthesis of Thin Films of Carbon Nitride. J. Mater. Res. 1995, 10, 1083

タイトルに関連する用語 (4件)： イオンビーム支援蒸着 ,  窒化炭素 ,  膜形成 ,  Arイオン