文献

J-GLOBAL ID：200902120584958097   整理番号：96A0613971

185nmの光を用いる重合体表面の化学修飾

Chemical Modification of Polymer Surface Using 185-nm Light.

著者 (3件)： SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YATSUO T (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 9  号： 2  ページ： 273-276  発行年： 1996年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 185nmの光に感じる新しい4種の光酸発生剤(I)[一般式:...

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...
準シソーラス用語： 遠紫外線 ,...

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分類 (2件)： 単独重合  (CG04020S) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (4件)： メタンスルホン酸イソプロピリデンアミノ ,  メタンスルホン酸2,5-ジオキソ-1-ピロリジニル ,  [(1S,4R)-7,7-ジメチル-2-オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン-1-イル]メタンスルホン酸イソプロピリデンアミノ ,  [(1S,4R)-7,7-ジメチル-2-オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン-1-イル]メタンスルホン酸2,5-ジオキソ-1-ピロリジニル

引用文献 (8件)：

• 1). L. F. Thompson, C. G. Willson, M. J.Bowden, "Introduction toMicrolithography", American ChemicalSociety (1994) p. 239.
• 2). F. Coopmans, B. Roland, Proc. SPIE,631 (1986) 34.
• 3). G. N. Taylor, L. E. Stillwagon, T.Venkatesan, J. Electrochem. Soc., 131(1984) 1658.
• 4). D. Nalamasu, G. N. Taylor, Proc. SPIE,1086 (1989) 186.
• 5). M. Shirai, M. Tsunooka, Proc. 10thInternational Conference onPhotopolymers, New York, Mid-HudsonSection, SPE, Ellenville, New York(1994) p.128.

タイトルに関連する用語 (3件)： 重合 ,  体表面 ,  化学修飾