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J-GLOBAL ID：200902121107410400   整理番号：99A0373257

ポリメタクリル酸メチル及びその同族体の185nm光によるアブレーション的光劣化

Ablative photodegradation of poly(methyl methacrylate) and its homologues by 185-nm light.

著者 (3件)： SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YAMAMOTO T (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Polymer Degradation and Stability  (Polymer Degradation and Stability)
巻： 63  号： 3  ページ： 481-487  発行年： 1999年03月 
JST資料番号： E0404B  ISSN： 0141-3910  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリメタクリル酸メチル(PMMA),-n-ブチル,-t-ブチ...

シソーラス用語： *ポリメタクリル酸メチル ,...
準シソーラス用語： ポリメタクリル酸t-ブチル

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分類 (1件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A)

物質索引 (1件)： メタクリル酸イソプロピル

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリメタクリル酸メチル ,  同族体 ,  アブレーション ,  光劣化