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J-GLOBAL ID：200902121351647098   整理番号：01A0396606

負イオン注入によるポリスチレン表面の神経細胞接着特性の改質とパターン化処理

Modification of Polystyrene Surface for Neuron Cell Attachment Properties by Nagative Ion Implantation and Pattern Treatment.

著者 (5件)： 辻博司 (京大 大学院工学研究科) ,  佐藤弘子 (京大 大学院工学研究科) ,  佐々木仁志 (京大 大学院工学研究科) ,  後藤康仁 (京大 大学院工学研究科) ,  石川順三 (京大 大学院工学研究科)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 44  号： 2  ページ： 87-93  発行年： 2001年02月20日 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 神経細胞の接着特性を改良し、パターン化するためのイオン注入に...

シソーラス用語： *ポリスチレン ,...
準シソーラス用語： *神経細胞

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分類 (2件)： 細胞生理一般  (EF02010S) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

引用文献 (19件)：

• 1) 例えば, 「医療機能材料」 (高分子学会編, 高分子機能材料シリーズ第9巻, 共立出版, 1990).
• 2) Y. Suzuki, M. Kusakabe, K. Kusakabe, H. Akiba and M. Iwaki : Nuclear Instruments and Methods in Physics Research., B59/60 (1991) 698.
• 3) Y. Suzuki, M. Kusakabe, J. S. Lee, M, Kusakabe, M. Iwaki and H. Sasabe : Nuclear Instruments andMethods in Physics Research, B65 (1992) 142.
• 4) 辻 博司, 豊田啓孝, 南雲正二, 後藤康仁, 石川順三, 酒井滋樹, 丹上正安, 松田耕自 : 真空, 37 (1994) 139-142.
• 5) H. Tsuji, Y. Toyota, J. Ishikawa, S. Sakai, Y. Okayama, S. Nagumo, Y. Gotoh and K. Matsuda : Ion Implantation Technolgy-94, (Elsevier, New York, 1995), p.612.

タイトルに関連する用語 (6件)： イオン注入 ,  ポリスチレン ,  神経 ,  細胞接着 ,  改質 ,  パターン化