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J-GLOBAL ID：200902121425566125   整理番号：99A0419798

大面積均一プラズマ生成のため8.3GHzでの放射線状スロットアンテナの設計

Design of Radial Line Slot Antennas at 8.3 GHz for Large Area Uniform Plasma Generation.

著者 (6件)： YAMAMOTO T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NGUYEN T C (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ANDO M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  GOTO N (Takushoku Univ., Tokyo, JPN) ,  HIRAYAMA M (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OHMI T (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38  号： 4A  ページ： 2082-2088  発行年： 1999年04月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 狭いプロセス空間の大面積高密度プラズマ源の候補として8.3G...

シソーラス用語： *プラズマ源 ,...

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分類 (2件)： プラズマ生成・加熱  (BJ02060E) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

引用文献 (10件)：

• (1) N. Goto and M. Yamamoto: Inst. Electr. Commun. Eng. Tech. Rep. AP80-57 (1980) 43 [in Japanese].
• (2) M. Takahashi, J. Takada, M. Ando and N. Goto: Proc. Inst. Electr. Eng. 139 (1992) No. 1, 79.
• (3) J. Hirokawa, J. Takada, M. Ando and N. Goto: Proc. Inst. Electr. Eng. 137 (1990) No. 5, 249.
• (4) T. Ohmi: Preface in New Era of Semiconductor Manufacturing I, Ultra Clean Technol. 9 (1997) Suppl. 1.
• (5) M. Hirayama and T. Ohmi: Proc. 30th Symp. ULSI Ultra Clean Technol. (1997) p.51.

タイトルに関連する用語 (5件)： 大面積 ,  プラズマ生成 ,  放射線状 ,  スロットアンテナ ,  設計