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J-GLOBAL ID：200902121802925135   整理番号：95A0910799

RFマグネトロンスパッタによるルチルTiO₂膜の作製

Preparation of Rutile TiO₂ Films by RF Magnetron Sputtering.

著者 (6件)： OKIMURA K (Fukui National coll. Technol., Fukui, JPN) ,  SHIBATA A (Fukui National coll. Technol., Fukui, JPN) ,  MAEDA N (Fukui National coll. Technol., Fukui, JPN) ,  TACHIBANA K (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  NOGUCHI Y (Kuramo Denko Co., Ltd., Fukui, JPN) ,  TSUCHIDA K (Fukui Industrial Technical Center, Fukui, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 34  号： 9A  ページ： 4950-4955  発行年： 1995年09月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ArとO₂の混合気体を用いたRF(13...

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (19件)：

• LOBLE, P. Thin Solid Film. 1994, 251, 72
• WICAKSANA, D. J.Vac.Sci.Technol. 1992, A 10, 1479
• MIYAKE, S. J.Vac.Sci.Technol. 1992, A 10, 3253
• FUKUSHIMA, K. J.Appl.Phys. 1985, 58, 4146
• SCHILLER, S. Thin Solid Films. 1981, 83, 239

タイトルに関連する用語 (5件)： RF ,  マグネトロンスパッタ ,  ルチル ,  TiO2 ,  作製