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J-GLOBAL ID:200902122267297983   整理番号:94A0825530

極紫外リソグラフィーにおけるレジストパターンゆらぎの限界

Resist pattern fluctuation limits in extreme-ultraviolet lithography.
著者 (5件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 2361-2371  発行年: 1994年07月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 1071-1023  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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分類 (2件):
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記憶装置  ,  試料技術 
タイトルに関連する用語 (5件):
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