極紫外リソグラフィーにおけるレジストパターンゆらぎの限界

SCHECKLER E W; OGAWA T; YAMANASHI H; SOGA T; ITO M

文献

J-GLOBAL ID：200902122267297983 整理番号：94A0825530

極紫外リソグラフィーにおけるレジストパターンゆらぎの限界

Resist pattern fluctuation limits in extreme-ultraviolet lithography.

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資料名：
巻： 12 号： 4 ページ： 2361-2371 発行年： 1994年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

1~16GDRAM用に180~70nmと狭い微細加工を行うE...

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記憶装置 , 試料技術

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