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J-GLOBAL ID：200902125081727510   整理番号：94A0179929

D2Oを用いたMOCVD法によるZnO膜の作製

Preparation of ZnO Films Using D2O by MOCVD.
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著者 (4件)：
WENAS W W

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(東京工大 工)

東京工大 工 について

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山田明

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(東京工大 工)

東京工大 工 について

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小長井誠

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(東京工大 工)

東京工大 工 について

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高橋清

高橋清 について

(東京工大 工)

東京工大 工 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 54th  号： 2  ページ： 746  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
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D2O

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MOCVD

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ZnO

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作製

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