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J-GLOBAL ID：200902125877222747   整理番号：93A0466898

イソプロピルアルコールによる除電機構 ウェットプロセスでの静電気発生の防止

Static charge removal with PIA solution. Static charge prevention in wet chemical process.

著者 (4件)： 須藤誠司 (東北大 工) ,  森永均 (東北大 工) ,  大見忠弘 (東北大 工) ,  三島博之 (徳山曹達)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 93  号： 7(SDM93 1-10)  ページ： 15-22  発行年： 1993年04月22日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体製造環境での静電気の制御は製造歩留りに最も影響を与える...

シソーラス用語： ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： イソプロピルアルコール

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： イソプロピルアルコール ,  除電 ,  ウェットプロセス ,  静電気