157nmにおける浸漬リソグラフィー

SWITKES M; ROTHSCHILD M

文献

J-GLOBAL ID：200902126003222638 整理番号：02A0173275

157nmにおける浸漬リソグラフィー

Immersion lithography at 157nm.

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巻： 19 号： 6 ページ： 2353-2356 発行年： 2001年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

70nm以下のパターン形成ようの157nm浸漬リソグラフィー...

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固体デバイス製造技術一般 , 試料技術

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