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J-GLOBAL ID：200902127710632849   整理番号：02A0616916

高分解能フォトレジストのための新しい戦略

New Strategies for High Resolution Photoresists.

著者 (8件)： OBER C K (Cornell Univ., New York) ,  DOUKI K (Cornell Univ., New York) ,  VOHRA V R (Cornell Univ., New York) ,  KWARK Y-J (Cornell Univ., New York) ,  LIU X-Q (Cornell Univ., New York) ,  CONLEY W (International SEMATECH, Texas) ,  MILLER D (International SEMATECH, Texas) ,  ZIMMERMAN P (International SEMATECH, Texas)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15  号： 4  ページ： 603-611  発行年： 2002年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 透明度,エッチ耐性,ほかの望ましい特徴をバランスさせるために...

シソーラス用語： 光酸発生剤 ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  共重合  (CG04030D)

物質索引 (3件)： アクリル酸1-[4-[1-ヒドロキシ-1-(トリフルオロメチル)-2,2,2-トリフルオロエチル]シクロヘキシル]-1-(トリフルオロメチル)-2,2,2-トリフルオロエチル ,  4-tert-ブチルオキシ-2,3,5,6-テトラフルオロスチレン ,  トリフルオロアクリル酸2-メチルアダマンタン-2-イル

引用文献 (17件)：

• 1). Reichmanis, E.; Houlihan, F. M.; Nalamasu, O.; Neenan, T. X. Chem. Mater. 3, 394, 1991.
• 2). MacDonald, S. A.; Willson, C. G.; Frechet, J. M. J. Acc. Chem. Res. 27, 6, 1994.
• 3). Bloomstein, T.M., Horn, M.W., Rothschild, M., Kunz, R.R., Palmacci, S. T., Goodman, R.B., J. Vac. Sci. Technol. B, 13(6), 2112, 1997.
• 4). Kunz, R. R.; Bloomstein, T. M.; Hardy, D. E.; Goodman, R. B.; Downs, D. K.; Curtin, J. E. J. Vac. Sci. Technol. B, 17, 3267, 1999.
• 5). (a) Schmaljohann, D.; Bae, Y. C.; Weibel, G. L.; Hamad, A. H.; Ober, C. K. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 3999, 330, 2000: (b) Bae, Y. C.; Dai, J.; Weibel, G. L.; Ober, C. K. Polym. Prepr. 41(2), 1586, 2000: (c) Schmaljohann, D.; Bae, Y. C.; Weibel, G. L.; Hamad, A. H.; Ober, C. K. J. Photopolym. Sci. Technol. 13, 451, 2000.

タイトルに関連する用語 (3件)： 高分解能 ,  フォトレジスト ,  戦略