成膜プロセス・界面形成 スパッタリング法によるTiNi形状記憶合金薄膜の作製とその特性

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J-GLOBAL ID：200902128577961954 整理番号：97A0244709

成膜プロセス・界面形成スパッタリング法によるTiNi形状記憶合金薄膜の作製とその特性

Properties of Sputtered TiNi Shape Memory Alloy Thin Films.

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資料名：
巻： 3rd ページ： 131-136 発行年： 1997年02月
JST資料番号： L2496A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

TiNi薄膜の形状記憶特性のスパッタリング条件依存性及びアク...

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金属薄膜 , その他の金属組織学 , 制御機器一般

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