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J-GLOBAL ID：200902128861576785   整理番号：02A0465798

XRDを用いたエピタキシャルPb(Zr_x,Ti_1-x)O₃薄膜における相境界近傍の結晶構造解析

著者 (5件)： 斎藤啓介 (日本フィリップス) ,  及川貴弘 (東京工大) ,  黒沢利行 (日本フィリップス) ,  赤井孝夫 (日本フィリップス) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 49th  号： 2  ページ： 521  発行年： 2002年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *強誘電体 ,...
準シソーラス用語： *PZT【鉛化合物】 ,...

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分類 (3件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y)

タイトルに関連する用語 (8件)： XRD ,  エピタキシャル ,  Pb ,  O3 ,  薄膜 ,  相境界 ,  近傍 ,  結晶構造解析