157nmリソグラフィーにおける未解決の問題

BLOOMSTEIN T M; ROTHSCHILD M; KUNZ R R; HARDY D E; GOODMAN R B; PALMACCI S T

文献

J-GLOBAL ID：200902129090645581 整理番号：99A0237713

157nmリソグラフィーにおける未解決の問題

Critical issues in 157nm lithography.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=99A0237713&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0237713&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0974A") }}

著者 (6件)： , , , , ,
資料名：
巻： 16 号： 6 ページ： 3154-3157 発行年： 1998年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

100~70nm幾何学用としての157nm投影リソグラフィー...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0237713&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0974A") }}

試料技術 , 固体デバイス製造技術一般

前のページに戻る