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J-GLOBAL ID：200902130799510092   整理番号：99A0040334

酸化インジウムすず薄膜の高速マスクレスレーザパターニング

High-speed maskless laser patterning of indium tin oxide thin films.

著者 (2件)： YAVAS O (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAKAI M (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 73  号： 18  ページ： 2558-2560  発行年： 1998年11月02日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記の薄膜のパターニング特性を調べた。半導体レーザ励起のQス...

シソーラス用語： *レーザ加工 ,...
準シソーラス用語： ITO【固溶体】 ,...

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分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 酸化インジウムすず ,  薄膜