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J-GLOBAL ID：200902132316507587   整理番号：98A0689133

IBAD法によって作成した(Ti_1-x,Al_x)N薄膜の構造と経年変化

Microstructure and Secular change of (Ti1-x,Alx)N Films prepared by IBAD.

著者 (5件)： 鈴木常生 (大阪大 接合科研) ,  巻野勇喜雄 (大阪大 接合科研) ,  節原裕一 (大阪大 接合科研) ,  三宅正司 (大阪大 接合科研) ,  SAMANDI M (Univ. Wollongong)
資料名： 高温学会誌  (Journal of High Temperature Society)
巻： 24  号： 4  ページ： 165  発行年： 1998年07月 
JST資料番号： F0907B  ISSN： 0387-1096  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (3件)： IBAD法 ,  薄膜 ,  経年変化