文献

J-GLOBAL ID：200902133880886942   整理番号：00A0644436

石英ガラスにおける中性子照射で生成する放射バンドのアニーリング特性

Annealing Behavior of Emission Bands Induced by Neutron Irradiation in Silica Glass.

著者 (8件)： NASU S (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  SUTANI T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  ISHIDA S (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KOSHINO A (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  YAMAMOTO R (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  NANTO H (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  TANIFUJI T (Japan Atomic Energy Res. Inst., Ibaraki, JPN) ,  MORIMOTO Y (Ushio Res. Inst. Technol., Inc., Shizuoka, JPN)
資料名： Journal of Light & Visual Environment  (Journal of Light & Visual Environment)
巻： 24  号： 1  ページ： 36-41  発行年： 2000年05月 
JST資料番号： S0965A  ISSN： 0387-8805  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 石英ガラス管球の放電管はSi-Si結合が混在してSi-O-S...

シソーラス用語： *放電ランプ ,...

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分類 (2件)： 光源,照明器具  (NB12020F) ,  ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z)

引用文献 (22件)：

• (1) Rothschild, M., Ehrlich, D.I. and Shava, D.C.: Effects of Excimer Laser Irradiation on the Transmission, Index of Refraction and Density of Ultraviolet Grade Fused Silica, Appl. Phys. Lett., 55-13, pp. 1276-1278(1989)
• (2) Griscom, D.L.: Optical Properties and Structure of Defects in Silica Glass, J. Ceram. Soc. Jpn., 99-10, pp. 923-942(1991)
• (3) Tohmon, R., Mizuno, H., Ohki, T., Sasagane K., Nagasawa, K. and Hama, Y.: Corelation of the 5.0- and 7.6 eV Absorption Bands in SiO₂ with Oxygen Vacancy, Phys. Rev., B39-2, pp. 1337-1345(1989).
• (4) Kohketsu, M., Awazu, K., Kawazoe, H. and Yamane, M. Photoluminescence Centers in VAD SiO₂ Glasses Sintered under Reducing or Oxidizing Atmospheres, Jpn. J. Appl. Phys., 28-4, pp. 615-621(1989)
• (5) Hosono, H., Abe, Y., Imagawa, H., Imai, H. and Arai, K.: Experimental Evidence for the Si-Si Bond Model of the 7.6-eV Band In SiO₂ Glass, Phys. Rev., B-44-21, pp. 12043-12045(1991)

タイトルに関連する用語 (5件)： 石英ガラス ,  中性子照射 ,  放射 ,  バンド ,  アニーリング