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J-GLOBAL ID：200902135132241249   整理番号：94A0139447

Marks for alignment and registration in projection electron lithography.

著者 (9件)： FARROW R C (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  LIDDLE J A (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  BERGER S D (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  HUGGINS H A (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  KRAUS J S (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  CAMARDA R M (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  JURGENSEN C W (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  KOLA R R (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  FETTER L (AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 11  号： 6  ページ： 2175-2178  発行年： 1993年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)