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J-GLOBAL ID：200902135513963828   整理番号：02A0843052

真空アークプラズマ蒸発による透明導電性酸化物薄膜の高速蒸着

High rate deposition of transparent conducting oxide thin films by vacuum arc plasma evaporation.

著者 (3件)： MINAMI T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  IDA S (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  MIYATA T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 416  号： 1/2  ページ： 92-96  発行年： 2002年09月02日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 透明導電性酸化物(TCO)薄膜を標記方法により370nm/m...

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,...
準シソーラス用語： ITO【固溶体】

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分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 真空アーク ,  プラズマ ,  蒸発 ,  透明導電性酸化物 ,  薄膜 ,  蒸着