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J-GLOBAL ID：200902136167651926   整理番号：93A0415473

InP上に高速熱低圧金属有機化学蒸着で形成した極低抵抗率TiN_x膜の微視構造の研究

Microstructural study on very low resistivity TiN_x films formed by rapid thermal low-pressure metalorganic chemical vapour deposition onto InP.

著者 (6件)： KATZ A (AT & Bell Lab., NJ, USA) ,  FEINGOLD A (AT & Bell Lab., NJ, USA) ,  NAKAHARA S (AT & Bell Lab., NJ, USA) ,  PEARTON S J (AT & Bell Lab., NJ, USA) ,  LANE E (AT & Bell Lab., NJ, USA) ,  JONES K (Univ. Florida, FL, USA)
資料名： Semiconductor Science and Technology  (Semiconductor Science and Technology)
巻： 8  号： 3  ページ： 450-458  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： E0503B  ISSN： 0268-1242  CODEN： SSTEET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 蒸着後最高600°Cに及ぶその場熱処理と,反応ガス混合への第三...

シソーラス用語： チタン化合物 ,...

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分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： InP ,  低圧 ,  金属有機化学蒸着 ,  極 ,  低抵抗 ,  研究