Si表面におけるF<sub>2</sub>分子反応過程の分子軌道法解析 (II)

文献

J-GLOBAL ID：200902136855280168 整理番号：98A0506459

Si表面におけるF₂分子反応過程の分子軌道法解析 (II)

F2 Reaction Process on Si Surface Analyzed by Molecular Orbital Method. (II).

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資料名：
巻： 45th 号： 2 ページ： 798 発行年： 1998年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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