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J-GLOBAL ID：200902136989218469   整理番号：02A0435852

イオンビームスパッタリング法による窒化炭素系積層多層薄膜の合成と評価

Characterization of MN/CN_x (M: Ti,Zr) Multilayer Thin Films Prepared by Ion Beam Sputtering Method.

著者 (3件)： 木村友之 (龍谷大 大学院理工学研究科) ,  青井芳史 (龍谷大 理工) ,  上条栄治 (龍谷大 理工)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 45  号： 3  ページ： 208-211  発行年： 2002年03月20日 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イオンビームスパッタリング法により,ナノメートルオーダでの積...

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

引用文献 (11件)：

• YASHAR, P. J. Vac. Sci. Technol. A. 1998, 16
• 玉岡克康. 真空. 1999, 42, 265
• 中山明. 真空. 1994, 30, 55
• PANJAN, P. Surf. Coat. Technol. 1998, 98, 1497
• TAYLOR, C. The Industrial Physicist. 1998, March 25

タイトルに関連する用語 (4件)： イオンビームスパッタリング法 ,  窒化炭素 ,  多層薄膜 ,  評価