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J-GLOBAL ID：200902140251688190   整理番号：00A0867499

偏光解析的ポロシメトリーによる薄膜の気孔サイズ分布の決定

Determination of pore size distribution in thin films by ellipsometric porosimetry.

著者 (4件)： BAKLANOV M R (IMEC, Leuven, BEL) ,  MOGILNIKOV K P (Inst. Semiconductor Physics SB RAS, Novosibirsk, RUS) ,  POLOVINKIN V G (Inst. Semiconductor Physics SB RAS, Novosibirsk, RUS) ,  DULTSEV F N (Inst. Semiconductor Physics SB RAS, Novosibirsk, RUS)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 18  号： 3  ページ： 1385-1391  発行年： 2000年05月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 滑らかな固体基板上に堆積した多孔質薄膜の気孔サイズの測定に偏...

シソーラス用語： *細孔径分布 ,...
準シソーラス用語： ポロシメトリー

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分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  偏光測定と偏光計  (BD07050K) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

物質索引 (3件)： トルエン ,  ヘプタン ,  四塩化炭素

タイトルに関連する用語 (4件)： 偏光解析 ,  薄膜 ,  気孔 ,  サイズ分布