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J-GLOBAL ID:200902143140562430   整理番号:02A0104934

部品加工技術 より高く・より広く・より深く・より速く 3次元実装に用いるチップ貫通電極形成技術

In Quest of Advanced, Expanding, Fundamental, and High-speed Parts Processing Technologies. Copper Electroplating Study for Through Silicon Chip Electrode of Three-dimensional Chip Stacking.
著者 (4件):
資料名:
巻:号:ページ: 78-84  発行年: 2001年12月10日 
JST資料番号: L3836A  ISSN: 1342-4114  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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貫通電極は、積層するLSIチップ間を最短距離で接続するために...
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固体デバイス製造技術一般 
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