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J-GLOBAL ID:200902143985891157   整理番号:01A0428297

CVD材料プロセス 概要設計を目的とした基板加熱型CVD反応器のモデル化

CVD Material Processing. Modeling of Hot Wall Type CVD Reactor for Prototype Design.
著者 (3件):
資料名:
巻: 26  号:ページ: 798-803  発行年: 2000年11月10日 
JST資料番号: S0110B  ISSN: 0386-216X  CODEN: KKRBAW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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基板加熱型CVD反応器で,シャワーヘッドで均一にガスを供給す...
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分類 (1件):
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薄膜一般 
引用文献 (6件):

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