文献

J-GLOBAL ID：200902145556669120   整理番号：98A0861053

化学的及び幾何学的に強化した集束イオンビームマイクロマシニング

Chemically and geometrically enhanced focused ion beam micromachining.

著者 (5件)： RUSSELL P E (North Carolina State Univ., North Carolina) ,  STARK T J (North Carolina State Univ., North Carolina) ,  GRIFFIS D P (North Carolina State Univ., North Carolina) ,  PHILLIPS J R (North Carolina State Univ., North Carolina) ,  JARAUSCH K F (North Carolina State Univ., North Carolina)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 16  号： 4  ページ： 2494-2498  発行年： 1998年07月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 集束イオンビーム(FIB)による材料除去速度の幾何学的及び化...

シソーラス用語： *集束イオンビーム ,...
準シソーラス用語： 探針

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0861053&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0974A") }}

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学 ,  幾何学 ,  強化 ,  集束イオンビーム ,  マイクロマシニング