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J-GLOBAL ID：200902147106360173   整理番号：99A0852943

超音波気体濃度分析器を用いた有機金属化学気相成長法によるYBa₂Cu₃O_x薄膜の再現性のある成長

Reproducible Growth of Metalorganic Chemical Vapor Deposition Derived YBa₂Cu₃O_x Thin Films Using Ultrasonic Gas Concentration Analyzer.

著者 (7件)： YAMAMOTO S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NAGATA K (Musashi Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  SUGAI S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  SENGOKU A (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  MATSUKAWA Y (Musashi Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  HATTORI T (Musashi Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ODA S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38  号： 8  ページ： 4727-4732  発行年： 1999年08月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超音波測定で標題法による標題化合物成長の前駆体濃度をモニタし...

シソーラス用語： *高温超伝導体 ,...

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分類 (2件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (21件)：

• (1) M. Leskel"a, H. M"ols"a and L. Niinist"o: Supercond. Sci. Technol. 6 (1993) 627.
• (2) I.M. Watson: Chem. Vap. Deposition 3 (1997) 9.
• (3) S. Oda, H. Zama and S. Yamamoto: J. Cryst. Growth 145 (1994) 232.
• (4) S. Oda, S. Yamamoto and A. Kawaguchi: J. Phys. IV (Paris) 5 (1995) C-379.
• (5) S. Yamamoto, A. Kawaguchi, K. Nagata, T. Hattori and S. Oda: Appl. Surf. Sci. 112 (1997) 30.

タイトルに関連する用語 (7件)： 超音波 ,  気体濃度 ,  分析器 ,  有機金属化学気相成長法 ,  薄膜 ,  再現性 ,  成長