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J-GLOBAL ID：200902148907494216   整理番号：03A0049807

ホランダイト型K_xGa_xSn_8-xO₁₆薄膜の調製及びNO吸着挙動

Preparation of hollandite-type K_xGa_xSn_8-xO₁₆ thin film and NO adsorption behavior.

著者 (6件)： FUJIMOTO K (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  SUZUKI J (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  HARADA M (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  AWATSU S (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  MORI T (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  WATANABE M (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN)
資料名： Solid State Ionics  (Solid State Ionics)
巻： 152/153  ページ： 769-775  発行年： 2002年12月 
JST資料番号： B0096B  ISSN： 0167-2738  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スピンコーティング法によって,YSZ基板上で,平均サイズが約...

シソーラス用語： *カリウム化合物 ,...
準シソーラス用語： TPD【脱着】 ,...

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分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： ホランダイト ,  薄膜 ,  調製 ,  NO ,  吸着 ,  挙動