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J-GLOBAL ID：200902149123462942   整理番号：96A0656415

その場ガスサンプリングによる低圧有機金属化学蒸着装置におけるトリメチルガリウム-モニメチルヒドラジンのガス反応に関する質量分析研究

Mass-spectrometric study of gas reaction of trimethylgallium-monomethylhydrazine in a low-pressure metalorganic chemical vapor deposition apparatus by in-situ gas sampling.

著者 (5件)： ISHII M (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  MINAMI T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  MIYATA T (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  KARAKI S (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN) ,  TAKATA S (Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
資料名： Institute of Physics Conference Series  (Institute of Physics Conference Series)
号： 142  ページ： 899-902  発行年： 1996年 
JST資料番号： E0403B  ISSN： 0305-2346  CODEN： IPHSAC  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： H₂雰囲気中でトリメチルガリウム(TM...

シソーラス用語： 窒化ガリウム ,...
準シソーラス用語： メチルアミン

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： サンプリング ,  低圧 ,  有機金属化学蒸着 ,  トリメチルガリウム ,  質量分析 ,  研究