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J-GLOBAL ID：200902151284542860   整理番号：98A0505899

n型エピタキシャルCdF₂:Gd膜のMBE成長 Cd分子線同時供給法

n-type epitaxial CdF2:Gd grown by molecular beam epitaxy. Simultaneous supply method of Cd beam.

著者 (3件)： 小堀俊光 (東京工大) ,  三浦信 (東京工大) ,  筒井一生 (東京工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 45th  号： 2  ページ： 586  発行年： 1998年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： エピタキシャル ,  Gd ,  MBE成長 ,  Cd ,  分子線