有機金属化学気相成長によるPt/(Ti,Al)N/YiN/Si基板上へのジルコニウムチタン酸鉛エピタキシャル膜の作製と評価

SAKURAI A; LI X M; SHIRATSUYU K; TANAKA K; SAKABE Y

文献

J-GLOBAL ID：200902153103008770 整理番号：00A1007624

有機金属化学気相成長によるPt/(Ti,Al)N/YiN/Si基板上へのジルコニウムチタン酸鉛エピタキシャル膜の作製と評価

Preparation and Characterization of Epitaxial Lead Zirconate Titanate Films on Pt/(Ti, Al)N/TiN/Si Substrates by Metalorganic Chemical Vapor Deposition.

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資料名：
巻： 39 号： 9B ページ： 5441-5445 発行年： 2000年09月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

標記のPt/TAN/TiN/Si基板(A)及びTAN/Si基...

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強誘電体,反強誘電体,強弾性 , 酸化物薄膜

引用文献 (7件)：

1) T. Shimizu, K. Yamamoto and H. Kimura: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 245.
2) K. Okada and K. Tomonaga: Jpn. J. Appl. Phys. 29 (1990) 718.
3) H. Ishiwara, K. Nishikawa and T. Okamoto: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 442.
4) A. Sakurai, K. Shiratsyuyu, H. Takagi and Y. Sakabe: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 5812.
5) X. M. Li, K. Shiratsuyu, K. Tanaka and Y. Sakabe: Mater. Res. Soc. Jpn. 24 (1999) 59.

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